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工业纯水设备

工业纯水设备

电子陶瓷新材料用20t/h纯水设备

概要:
电子级纳米新材料、高导热氮化铝陶瓷基板、陶瓷金属化产品和各种电子陶瓷元器件,在生产过程中将用到大量的纯水,一般根据产品的纯度不同,所需求的纯水设备的纯净度也不同,一般分为普通纯水和高纯水设备两种。该系列产品覆盖功率半导体模块、汽车电子、太阳能和风能、大功率LED等应用领域。

8t/h锂电池新材料用高纯水设备

概要:
该纯水设备为某国内知名的锂电池新材料生产企业用纯水设备,主要应用于锂电池隔膜生产中用水。 本系统采用二组4t/h纯水设备并联的方式,充分考虑到检修和保养时,可以保证单套供水能力。所配置水泵两套可以自由切换。 设备出水电阻率按照15兆欧设计,水中的重金属离子浓度可以去除到PPB等级。该设备同时可以满足磷酸铁锂、三元等锂电池生产其它环节用水。

200t/h精洗化工用纯水设备

概要:
本系统设备采用超滤+反渗透处理工艺制取纯水。因精细化工生产过程中一般对重金属离子、钙镁离子和一般性盐分要求比较高。 本纯水设备系统反渗透采用美国陶氏品牌,BW30-400型号,该型号反渗透膜具有脱盐率高、抗污染能力强等优点。 为了最大限度的提高水的利用率,本系统在反渗透膜的组合上,采用一级三段的配置方式,系统回收率可以达到75~78%。同时考虑到原水的盐分较高,所以在反渗透段间增加段间泵来保证渗透压力。 该纯水处理技术可以应用于大型化肥厂、精洗化工企业、煤化工企业、钢厂等场合。

15t/h电子级高纯水设备,出水18.2兆欧

概要:
纯水设备采用二级反渗透+EDI处理工艺,出水稳定达到电子级超纯水标准,电阻率可以达到18.2兆欧,使用于电子半导体工艺、太阳能光伏、芯片、集成电路生产用水。 一、设计范围及原则 1、进入纯水站的水源为自来水,根据客户地区的水质情况,其变化系数K≤1.5,处理系统排放的浓废水可直接排入市政综合管网。 2、纯水处理设施具有较大的适应性、应急性,可以满足水质及水量的变化,并考虑在突发或事故状态下的各种应急用水。 3、采用工艺具有可靠性,运行稳定,运转费用低,管理维护量特别小,反渗透系统采用PLC集成电路控制,自动化程度高。 4、系统管道除反渗透装置高压部分外,均采用符合标准的UPVC材质。 5、系统处理过程中选用工作泵均为多级离心泵,具有启动及运转功率小,无死角,噪音低,工作稳定等特点。 6、本工程设计范围为接入纯水处理站的给水管道起纯水出口为止的整个处理工艺、基础、电气等各专业的设计。 二、设计原水水质及水量要求 1、要求系统进水量≥22m³/h,才能确保RO产水量≥15m³/h。 2、原水含盐量较稳定,变化系数K≤1.2。 三、用水要求 1.系统产水量Q≥15m³/H(20℃) 2.出水水质:电阻率≥18.2MΩ.cm 3.供水方式:连续供水 4.控制方式:触摸屏集成电路PLC控制,各水泵及水箱液位连锁保护。 5.管阀门件:高压部分为不锈钢管道,其它均为UPVC管道,终端供水系统采用日本积水洁净管。

注射水设备和蒸馏水设备介绍

概要:
注射水设备采用纯化水设备产水经过多效蒸馏,实现内毒素、微生物等指标的去除,广泛应用于医疗器械末端精洗、生物细胞工程、注射液生产,对内毒素要求比较高的场合,如欧盟对纯化水水质的要求,本产品经过多年的改善改进创新,具体参考中国药典、欧盟和FDA药典标准。

50t/h电子级高纯水设备介绍

概要:
电子级高纯水设备采用全膜法制取高纯水,水质稳定18兆欧以上,具有自动化程度高,设备集成程度高,绿色环保,操作维护简便等特点。 ■主要用途: ※电子线路板生产制造用高纯水设备; ※半导体芯片晶元清洗用纯水设备; ※太阳能光伏(硅粉生产、单晶多晶生产、石英坩埚、多晶硅方舟、太阳能电池片生产)用电子级高纯水设备 ※锂电池新能源材料生产用去离子水设备 ※纳米和高纯度电子级材料生产用超纯水设备

1t/h医疗器械纯化水设备

概要:
医疗器械纯化水设备特点与优势 1) 采用反渗透水处理技术,与前置预处理配套使用,有效去除各种盐分及杂质。工艺先进,产水水质稳定,操作简便,维护方便,运行成本费用低 2) 采用进口海德能反渗透膜YQS-4040和ESPA2-4040反渗透膜,脱盐率高,能耗低 3)电控系统采用PLC控制,系统运行实现无人值守,电控箱采用双层防水电控箱,安全可靠。 4)创联净化有自己的不锈钢罐体抛光机器,保证系统中水箱采用自动抛光,实现真正的镜面抛光; 5)全套的液位自动控制,压力自动保护功能; 6)本系统配置完善,配套在线的反渗透膜清洗装置,减轻设备运行维护操作强度; 7)导入的新型售后服务体系,预防性预知性解决设备运行中出现的问题,保证设备运行客户无后顾之忧,设备质量保证期为1年; 8)系统工艺设计完善,针对客户原水自来水生物菌污染严重,在系统中设计多级杀菌装置;有药物消毒、紫外线杀菌消毒和臭氧消毒方法相结合。

20t/h纯水设备

概要:
20t/h纯水系统处理工艺流程图 原水→原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→用水点 注:原水采用自来水通过增压泵增压进入石英砂过滤器和活性炭过滤器,去除水中的悬浮物、胶体、有机物及余氯,过滤后的水通过高压泵增压进入反渗透系统,将水中的大部分盐分去除,以达到提纯目的,出水达到锅炉用水同时满足生活饮用水标准,出水水质优于国家生活饮用水标准。

制药企业4t/h纯化水设备

概要:
根据GMP药典规范要求,纯化用水的制备、贮存和分配应能防止微生物的滋生和污染。贮罐和输送管道所用材料应无毒、耐腐蚀。管道的设计和安装应避免死角、盲管。贮罐和管道要规定清洗、灭菌周期。注射用水贮罐的通气口应安装不脱落纤维的疏水性除菌滤器,该呼吸器可以自动加热,排尽呼吸器中的水蒸气,防止微生物繁殖。

500L/h三类医疗器械纯化水设备

概要:
医疗器械纯化水设备处理工艺 原水→原水箱→原水增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→还原剂加药系统→保安过滤器→高压泵I→反渗透装置I→PH调节装置→高压泵II→反渗透装置II→纯水箱→输送泵→精密过滤器→EDI电除盐系统→纯化水箱→输送泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→纯化水用水点

电子级25t/h高纯水设备

概要:
电子级高纯水设备采用二级反渗透系统采用美国陶氏反渗透膜技术,自动制膜技术有效保证每支膜的水处理性能。一级反渗透采用BW30-400型号的反渗透膜,该膜具有脱盐率较高、操作压力较小,抗污染性能,膜的脱盐率可以达到99.7%;二级反渗透膜采用BW30-365系列膜,该膜广泛使用二级反渗透系统中。二级反渗透出水水质电导率可以达到4微西门子以下; EDI电除盐系统采用原装进口西门子模块,EDI作为绿色脱盐模式,具有以下优点:占地面积省、运行成本低、系统设计简单、水质稳定、安装维修简便、绿色环保,不需要酸碱再生、可实现连续生产。EDI出水电阻率可以达到15~17兆欧; 抛光混床系统采用上海树脂厂和罗门哈斯合资品牌抛光核级树脂,抛光混床作为制取超纯水的核心部件,经处理后出水可以达到18兆欧以上,满足微电子行业用水要求;

锂电池新材料用5t/h高纯水设备

概要:
锂电池新材料目前主流材料有三元、磷酸铁锂等材料,因生产过滤中保证产品质量的可靠性,需要采用高纯水进行配置,高纯水设备采用反渗透加EDI处理技术,可以将水中的离子去除率达到99.99%以上,金属离子可以降的非常低。  反渗透设备技术反渗透是一种借助选择透过(半透过)性膜的功能,以压力为推动力的膜分离技术膜元件,由反渗透膜导流布和中心管等制作而成,将多根RO元件装入不锈钢耐压壳体内,组成RO组件。本工

6t/h光学镜片清洗纯水设备

概要:
光学镜片广泛应用于手机、激光器、投影仪、摄像机等电子产品中,在镜片清洗过程中要用到高纯水设备,如果水的纯净度不高,水中有金属离子、颗粒物等,镜片烘干后,将在镜片表面留下水渍,从而影响产品性能。  高纯水设备目前均采用世界先进工艺制取,应用各种膜分离技术和电除盐技术,从而来满足高纯水的制取。常用的工艺有如下几种:  1、石英砂过滤+活性炭过滤器+软化器+保安过滤器+高压泵+二级反渗透系统+EDI

单晶硅多晶硅用60t/h高纯水设备

概要:
单晶硅和多晶硅切片清洗会用到大量的去离子水对硅片清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,苏州市创联净化设备秒速时时彩是一家十几年从事高纯水设备设计制造安装服务的专业性公司,产品广泛应用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐蚀化成生产用高纯水设备。在单晶和多晶硅生产过程中从原料高纯硅粉生产、拉晶、多晶硅方舟、石英坩埚生产、硅片切割、电池片生产、半

电子级铝箔腐蚀箔化成箔用高纯水设备

概要:
腐蚀和化成工艺段会用到大量的去离子水对铝箔清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,苏州市创联净化设备秒速时时彩是一家十几年从事高纯水设备设计制造安装服务的专业性公司,产品广泛应用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐蚀化成生产用高纯水设备。 目前一般用高纯水设备的水质普遍要求在10兆欧以上,有的要求要达到15-18兆欧,基本上会采用二级反

太阳能电池片清洗用高纯水设备

概要:
从电池片生产流程可以看到,电池片清洗环节有多道要用到高纯水清洗。一般高纯水需要达到18兆欧以上,也有的企业要求更高,不仅要求电阻率指标,而且对各种金属离子均提出了很高的要求,基本上要达到半导体用水标准。 电池片清洗用高纯水设备一般采用以下工艺: 工艺一(主流工艺):原水箱--砂滤---碳滤---软化器(根据原水硬度选配)---二级反渗透系统----EDI电除盐系统----抛光混床系统
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